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臭氧清洁系统

德国ANSEROS安索罗斯公司生产的HOXON臭氧清洁系统可用于晶片清洗,光阻材料的去除以及原位生物膜的去除等工艺的清洗处理。

特 点
德国ANSEROS安索罗斯公司生产的HOXON臭氧清洁系统采用完全无金属的结构最大限度的避免了金属污染并且确保了分析的准确性。
臭氧清洁系统图片
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视频-臭氧清洁系统

德国ANSEROS安索罗斯公司开发的HOXON表面清洁系统是半导体工业的新模范。HOXON系统是基于完全生态环保和保证人身安全的绿色科技。我们坚信并遵循着大自然的法则,调整HOXON科技以迎合表面清洁应用的需求。

我们在成功建立HOXON系统,助力于半导体工业这项事业上,拥有超过二十五年的悠久历史。只要您说出问题,我们已经为您准备了解决方案。我们欢迎您可以与我们的研发人员展开友好的探讨:我们可以为您做些什么。

应用领域

晶片清洗,UCT-工艺、无机氧化、光阻材料的去除、去离子水的消毒、原位生物膜的去除、化学气相沉积的应用、废水处理、无菌恒温区域。

臭氧清洁系统应用领域

臭氧清洁系统客户案例

臭氧清洁系统臭氧清洁系统技术参数

完全非金属的系统;

气相臭氧容量高达270克/立方米;

液相臭氧容量高达100克/立方米;

AOP(高级氧化)清洁。

臭氧清洁系统臭氧清洁系统服务条款

1、翁开尔公司提供仪器免费安装服务;

2、提供仪器的基本购造、功能、日常使用操作、保养与管理、常见故障的排除、紧急情况的处理等培训服务。

3、自购买之日起,提供1年保修;

4、提供产品配套说明书。

臭氧清洁系统臭氧清洁系统标准配置

ANSEROSHOXON系统PAP-SC-200臭氧发生器臭氧分析仪
PAP-SC-200臭氧清洁系统COM-AD-08臭氧发生器 FM-PRO臭氧分析仪
可移动型臭氧水系统PAP臭氧破坏机CAT-HO-8000臭氧传感器
可移动型臭氧水系统PAP臭氧破坏机CAT-HO-8000CAT-HO-8000水相臭氧破坏机

HOXON臭氧清洁系统延伸技术资料

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